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应用 Precursor for the deposition of tungsten carbide and -nitride by atomic layer deposition. Precursors Packaged for Depositions Systems['Precursors Packaged for Depositions Systems General Description Atomic number of base material: 74 Tungsten Application Precursor for the deposition of tungsten carbide and -nitride by atomic layer deposition. Precursors Packaged for Depositions Systems

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中文名称

双(叔丁基亚氨基)双(二甲基氨基)钨(VI)

英文名称

Bis(tert-butylimino)bis(dimethylamino)tungsten(VI)

中文别名

英文别名

Bis(tert-butylimino)bis(dimethylamino)tungsten(VI), 97%, 99.99% trace metals basis | Bis(tert-butylimino)bis(dimethylamino)tungsten(VI) | Bis(tert-butylimino)bis(dimethylamino)tungsten(VI), packaged for use in deposition systems | MFCD07369712 | SCHEMBL60

CAS号

406462-43-9

分子式

C12H30N4W

分子量

414.23 g/mol

精确质量

包装用于沉积系统

PSA

26.700 Å²

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双(叔丁基亚氨基)双(二甲基氨基)钨(VI) 5g

Name: 双(叔丁基亚氨基)双(二甲基氨基)钨(VI) 5g
Brand: 阿拉丁
SKU: B432698-5g
Price: 6077.88 CNY
Availability: InStock

品牌：阿拉丁

货号：B432698-5g

级别： ≥97%,≥99.99% metals basis

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