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应用 Precursors Packaged for Depositions Systems['Precursors Packaged for Depositions Systems General Description Atomic number of base material: 72 Hafnium Application Precursors Packaged for Depositions Systems
中文名称
四(乙基甲基胺基)铪(IV)
英文名称
Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV)
中文别名
四(乙基甲基氨基)铪(IV), TEMAH
英文别名
Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV), packaged for use in deposition systems | SCHEMBL237323 | Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV) | Hafnium tetrakis(ethylmethylamide) | Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium 99.999% | MFCD03427130 | Tetrakis(ethylmethylami
CAS号
352535-01-4
分子式
C12H32HfN4
分子量
-
精确质量
包装用于沉积系统
PSA
-
Logp
-
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四双(乙基甲基氨)铪(IV) 97% 5g

源叶 四双(乙基甲基氨)铪(IV) 97% 5g,352535-01-4,规格齐全,生产科研实验检测,科学材料数智化一站式易购平台。

品牌:源叶
货号:T21954-5g
级别: -
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