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应用 四(二甲基氨基)锆 (IV)可用作锆原子层沉积的前驱物,其应用范围从气体传感器到微电子学中的高k电介质。 Application Tetrakis(dimethylamido) zirconium (IV) may be used as a precursor for atomic layer deposition of zirconium which find applications ranging from gas sensors to high-k dielectrics in microelectronics.
中文名称
四(二甲基胺基)锆(IV)
英文名称
Tetrakis(dimethylamido)zirconium(IV)
中文别名
TDMAZ, 四(二甲基氨基)锆(IV)
英文别名
Tetrakis(dimethylamido)zirconium(IV), deposition grade | TDMAZ | Tetrakis(dimethylamino)zirconium(IV), 99% (99.99%-Zr) TDMAZ, contained in 50ml Swagelok? cylinder for CVD/ALD | SCHEMBL77142 | Tetrakis(dimethylamido)zirconium(IV), packaged for use in depos
CAS号
19756-04-8
分子式
[(CH3)2N]4Zr
分子量
267.53 g/mol
精确质量
-
PSA
4.000 Ų
Logp
-
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四(二甲基胺基)锆(IV) 1g

品牌:阿拉丁
货号:T432279-1g
级别: -
货期:30天
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